分散剂对硅晶片研磨的影响有哪些？

    硅片用的磨料主要是碳化硅，因为它的莫氏硬度是9.5，仅次于金刚石，而且导热性好，抗氧化能力高。目前，悬浮和分散性的研磨液体能源不能完全满足生产需要。如果性能的劣质研磨液在研磨工艺中造成严重的芯片磨损和缺陷，将对后续加工工序产生非常不利的影响，甚至造成晶圆损坏，影响生产效率，造成重要损失。

    好的研磨溶液应该有好的悬浮，均匀，分散和适中的粘度PH值如果研磨液体的性能不好，磨料与磨盘的接触不会是均匀，会导致应力不均匀，出现碎片和划痕，严重影响硅片的平整度。

    为了获得稳定的分散研磨溶液，需要将体系中的电位绝对值控制在较高的位置。分散剂和活性剂对碳化硅悬浮性能的影响。分散剂的作用是降低分散体系中各种粒子的聚集程度。在碳化硅悬浮分散体系的制备中加入分散剂，可以提高体系的分散悬浮性能，保持体系相对稳定。

    分散剂效应对碳化硅磨料分散的作用机理是，它吸附在颗粒，表面，从而增加了粒子的表面电位，进一步增加了相互排斥。颗粒表面必须达到一定的吸附量才能使磨料体系稳定存在，所以分散剂的加入有一个佳值，过多的货物会影响悬浮的分散性，只有通过选择合适的分散剂将研磨的分散性和悬浮溶液的稳定性调整到良好状态，才能发挥溶液的良好效果。

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